ANSYS Lumerical 是一款行业领先的多功能、可扩展的光子学设计软件，满足广泛的光电组件设计和优化需求。软件整合了FDTD、RCWA和STACK求解器于单一设计环境中，为用户提供了精确的分析和优化工具。无论是光栅、多层叠层、微型LED、图像传感器还是金属透镜，Ansys Lumerical FDTD均提供一流的性能以适应多样化的应用场景。
Ansys Lumerical FDTD 支持快速虚拟原型制作和复杂设计的数千次迭代验证。用户有幸采用FDTD、RCWA或STACK等最优化方法进行设计，这些方法在多物理和多尺度工作流程中均提供了强大的支持。此外，软件提供了可扩展和便捷的高性能计算（HPC）和云解决方案，支持大规模物理仿真与成熟且无近似的FDTD方法。
Ansys Lumerical FDTD与Ansys Multiphysics求解器、Ansys Speos、Ansys Zemax及第三方电子光子设计自动化（EPDA）供应商无缝合作。使用行业最佳求解器在HPC（CPU和GPU）和云平台上实现出色性能，快速有效地解决最大的挑战。FDTD求解器凭借无与伦比的性能和精确度，RCWA求解器快速分析周期性结构，多层薄膜的SCALE以及在HPC和云端的加速功能，都是其特色所在。
主要特点
- FDTD – 3D电磁求解器
- RCWA – 严格的耦合波分析
- STACK – 光学多层求解器
- 光子逆设计优化
- 利用 HPC 和云进行扩展和加速
RCWA求解器
基于严格的耦合波分析方法，Lumerical RCWA通过提供周期性和多层结构的光散射快速模拟，对Lumerical FDTD和STACK进行了补充。
从捕获电场和磁场分布到透射和反射，以及评估每个光栅阶次的功率，RCWA提供了具有表面图案的复杂多层堆栈的快速仿真。
堆栈求解器
STACK Analytic 求解器比直接模拟麦克斯韦方程组更快。
它是薄膜应用快速原型制作的理想选择。从捕获微腔效应和干涉到处理偶极子照明和平面波函数，STACK提供了复杂薄膜多层堆栈的快速仿真。
光子逆向设计
自动发现最佳设计和几何形状，以实现目标设计目标。 发现非直观的几何形状，以优化性能、最小化面积并提高可制造性。
强大的后处理分析
强大的后处理能力，包括远场投影、能带结构分析、双向散射分布函数 （BSDF） 生成、Q 因子分析和电荷产生速率。
非线性和各向异性
仿真使用非线性材料或具有空间变化各向异性的材料制造的器件。从各种非线性、负折射率和增益模型中进行选择。使用灵活的材质插件定义新的材质模型。
多系数模型
使用多系数模型在长范围内进行精确的材料建模。从示例数据自动生成模型或自行定义函数。
3D CAD 环境
FDTD的CAD环境和可参数化的仿真对象允许对2D和3D模型进行快速的模型迭代。
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